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半導體超聲波清洗機廠家概述:
該設備用于晶片的清洗處理。該機清洗程序為酸洗、超聲洗、噴淋清洗、流洗。其工藝性能指標及可靠性*達到進口同類設備水平。
半導體超聲波清洗機廠家主要特點:
采用進口PP板制作。
適用MESA*SC晶片清洗。
超聲功率強勁,性能穩(wěn)定。
采用進口超聲波電源。
傳真:0537-2279761
地址:山東省濟寧市任城區(qū)安居街道張橋村東300米
備案號:魯ICP備16045956號-2 管理登陸 技術支持:化工儀器網(wǎng) sitemap.xml
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